盛美上海首台前道ArF工艺涂胶显影设备UltraLITH顺利出机晶圆损伤率小于1/50000

，梅生上海宣布，首台具有自主知识产权的涂胶显影轨道设备Ultra LITH成功交付中国国内客户，首台ArF工艺涂胶显影轨道设备由梅生半导体设备制造中心交付。

盛上海将于2023年推出i—line设备，公司已经开始研发KrF设备。

发展胶轨设备

显影胶轨设备支持光刻工艺，可以保证满足工艺要求，同时优化了晶圆在光刻设备中曝光前后的涂胶和显影步骤。

本站了解到，梅生上海滩涂胶显影跟踪设备是一台用于300毫米晶圆制程的设备，有4个装载口，8个涂胶腔和8个12英寸晶圆显影腔设备腔体温度可精确控制在23℃±0.1 ℃，烘烤范围为50 ℃~ 250 ℃，晶圆损伤率小于1/50000此外，受全球专利申请保护的全新结构设计还可扩展至支持12个涂胶腔和12个显影腔，每小时晶圆产能可达300片，未来伴随着涂胶和显影腔的增多，产能可达每小时400片以上

盛上海致力于打造晶圆级制程解决方案平台其产品还包括单晶片和槽湿法清洗设备，电镀设备，无应力抛光设备，立式炉管设备和PECVD设备

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